日本語
English
简体中文
Search
弊所
お問い合わせ
チーム
分野
特許
特許審査手続き
意匠特許
特許鑑定/訴訟
特許 – 付与後業務
商標および著作権
商標カウンセリングおよび審査手続き
商標権利行使
著作権
クライアント業務
滞在型クライアント
知的財産研修会
キャリア
弁護士
ロースクールの学生
スタッフ
詳細
スペシャルレポート
IDS 要件
判例要約
ニュース
製図サービス
翻訳/通訳サービス
継続的な法的教育
特許料金表
日本語
English
简体中文
Search
弊所
お問い合わせ
チーム
分野
特許
特許審査手続き
意匠特許
特許鑑定/訴訟
特許 – 付与後業務
商標および著作権
商標カウンセリングおよび審査手続き
商標権利行使
著作権
クライアント業務
滞在型クライアント
知的財産研修会
キャリア
弁護士
ロースクールの学生
スタッフ
詳細
スペシャルレポート
IDS 要件
判例要約
ニュース
製図サービス
翻訳/通訳サービス
継続的な法的教育
特許料金表
Menu
米国特許商標庁による料金引き上げ
2010年3月4日